微(wēi)焦點X射線實時(shí)成像系統可(kě)以用(yòng)于所有(yǒu)X、γ射線裝置的(de)防護水(shuǐ)平檢測，尤其适用(yòng)于工(gōng)業(yè)脈沖X光(g→uāng)機(jī)及醫(yī)學攝影(yǐng)用(yòng)X光(guāng)機(jī)機(jī)房(fáng)的×(de)洩露水(shuǐ)平檢測，同時(shí)适用(yòng)于脈沖反應堆的(de)感興趣區(qū)域劑量率檢測。是(shì)放(fàng)射衛生(shēng)評價、環境影(yǐng)響評價、科(→kē)學試驗監測、國(guó)土(tǔ)安全檢測、核應急場(chǎng)合的(de)理(lǐ)想檢測儀。
微(wēi)焦點X射線實時(shí)成像系統主要(yào)是(shì)檢測半導體(tǐ)接線處的(de)焊接問(wèn)題，焊接容易出現(xiàn)虛焊、漏焊等缺陷，一(yī)旦形成這(zhè)些(xiē)缺陷，半導體(tǐ)就(jiù)容易出現(xiàn)短(duǎn)路(lù)等問(wèn)題，為(wè♠i)了(le)半導體(tǐ)元件(jiàn)的(de)正常使用(yòng)，在焊接完成後需要(yào)進行(xíng)缺陷檢測。是(shì)目前市(×shì)場(chǎng)上(shàng)用(yòng)于樣品內(nèi)部檢測的(de)設備，相(xiàng)比較于其他(tā)類型的(de)γ檢測設備。
微(wēi)焦點X射線實時(shí)成像系統儀器(qì)的(de)工(gōng)作(zuò)原理(lǐ)：
該劑量儀采用(yòng)一(yī)支蓋革-彌勒計(jì)數(shù)管來(lái)測定輻射，當每一(yī)次∑射線通(tōng)過該GM管并引起電(diàn)離(lí)時(shí)便使該GM管産生(shēng)一(yī)次檢測電(diàn)流脈沖，每個(gè↓)脈沖被電(diàn)子(zǐ)管電(diàn)路(lù)檢測并記錄為(wèi)一(yī)個(gè)計(jì)數(shù)，該劑量儀的(de)顯示值為(wèi)在你(nǐ)所選定的(d↑e)模式下(xià)的(de)計(jì)數(shù)值。 由于放(fàng)射性的(de)随機(jī)特性，故由劑量儀所檢測到(dào)的(de)計(jì)數(☆shù)值各分(fēn)鐘(zhōng)有(yǒu)變化(huà)，當取一(yī)段平均時(shí)間(jiānΩ)內(nèi)的(de)讀(dú)數(shù)則較為(wèi)正确，當所取的(de)時(shí)間(jiān)間(jiān)隔越長(cháng)則平均數(shù)越✔準。
微(wēi)焦點X射線實時(shí)成像系統能(néng)較直觀地(dì)顯示工(gōng)件(jiàn)內(nèi)部缺陷的(de)大(dà)小(xiǎo)和(hé)形狀，因而≈易于判定缺陷的(de)性質，射線底片可(kě)作(zuò)為(wèi)檢驗的(de)原始記錄供多(duō)方研究并作(zuò)長(cháng)期保存，對(duì)薄壁工(gōng)件(jiàn)無損探傷靈敏度較高(gāo)。對(duì)體(tǐ)積狀缺陷敏感，缺陷影(yǐng)象的(de)平面分(fēn)布真實、尺寸測量精确。對(duì)工(gōng)件(j♥iàn)表面光(guāng)潔度沒有(yǒu)嚴格要(yào)求，材料晶粒度對(duì)檢測結果影(yǐng)響不(bù)大(dà)，可(kě)以适用(yòng)于各種材料內(nèi)部缺陷檢測，≠所以在壓力容器(qì)的(de)焊接質量檢驗中得(de)到(dào)廣泛應用(yòng)。
但(dàn)是(shì)，X射線檢測方法耗用(yòng)的(de)X射線膠片等器(qì)材費(fèi)用(yòng)較高(gāo)，底片評定周期較長(cháng)，檢驗速度較✘慢(màn)，對(duì)厚壁工(gōng)件(jiàn)檢測靈敏度低(dī)，隻宜探查氣孔、夾渣、縮孔、疏松等體(εtǐ)積性缺陷，能(néng)定性但(dàn)不(bù)能(néng)定量，且不(bù)适合用(yòng)于有(yεǒu)空(kōng)腔的(de)結構，對(duì)角焊、T型接頭的(de)檢驗敏感度低(dī)，不(bù)易發現(xiàn)間(jiān)隙很(hěn)小(xiǎo)的(βde)裂紋和(hé)未熔合等缺陷以及鍛件(jiàn)和(hé)管、棒等型材的(de)內(nèi)部分(fēn)層性缺陷。
